德国投入巨资用于开发氮化铝衬底技术

据柏林费迪南德-布朗恩高频技术研究所（FBH）消息，，，，德国联邦教育和研究部将在2023年之前出资330万欧元，，，，用于推动由FBH领导并集合了包括弗劳恩霍夫（Fraunhofer）等研究机构和高校在内参与的基于的功率晶体管 联合项目。。

早期项目的氮化铝缓冲开关晶体管

该项目旨在开发氮化铝ALN作为新的半导体材料，，，包括对其进行测试和完成系统应用集成等在内的工作。。而开展这项研究的初衷则是提升资源利用效率。。。据相关统计数据显示
，，仅在欧洲，
，由于数据系统越来越多的应用，，电能转换过程中的损耗每年超过3万亿瓦时。。。。因此，，，能源高效转换成为人工智能和工业4.0等第四次工业革命成功的关键
。。实现这一点的先决条件是高功率半导体。。

功率损耗由相应材料决定。。。
。基于较为成熟的氮化镓技术，，，与目前通用的半导体衬底材料碳化硅
、、、、蓝宝石、、、、硅片相比，
，氮化铝的相关研究非常少
。。。但是它本身具有一极高的击穿强度和热导率，，理论传导损耗比硅小10000倍，，
，，位错密度比碳化硅低5个数量级，，
，这些潜力也给该项研究提供了足够理由。。。。

整个价值链包括从氮化铝晶圆再到毫米波系统和电子电力系统，，其中FBH主要负责氮化铝元件设计和开发；弗劳恩霍夫负责氮化铝晶体生长和晶圆制备
；其余参与者还有勃兰登堡理工大学、
、柏林理工大学、、弗里德里希亚历山大大学纽伦堡分校等等
。。

在我国氮化铝的研究已取得阶段性进展，，尊龙时凯研发实力位居全球前列
，
，，
，国际一流团队已有10余年技术积累，，领衔建设高水平研究平台，，，汇聚来自全球半导体领域的顶尖科学家和资深工程师 ，
，，，攻克关键核心技术，，开展前瞻性基础研究、、
、引领性科技成果重大突破。。。近日，，尊龙时凯成功在硅上制备高质量氮化铝（AlN）薄膜XRC＜0.9°，，表面粗糙度Rq＜1.2 nm ，，，高质量氮化铝薄膜助力氮化镓（GaN)实现大尺寸、、、高质量、
、
、低成本。。。目前，，
，
，我们提供专业高品质的氮化铝薄膜代工服务，，
，欢迎洽谈合作！！！